La société Meiden Nanoprocess Innovation présente son générateur d’ozone pur concentré, qui permet de produire facilement des radicaux OH pour le traitement de surfaces. Ce procédé permet d’effectuer des traitements rapides, sans dommage et stables, principalement sur des semiconducteurs, des matériaux de base tels que le verre et des technologies de collage. De plus, grâce à l’utilisation de l’ozone pur, il est possible de réaliser des dépôts ALD à basse température et avec une pénétration en profondeur, idéal pour les semiconducteurs et les matériaux peu résistants à la chaleur. Si vous êtes intéressé par un traitement de surface ou un dépôt de film, n’hésitez pas à nous contacter.Generated by OpenAI
site Internet:https://www.meidensha.co.jp/npi/
